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口頭

Simultaneous imaging with a proton beam and an X-ray driven by a fs-intense laser

織茂 聡; 余語 覚文; 小倉 浩一; 匂坂 明人; 森 道昭; 桐山 博光; 近藤 修司; 山本 洋一*; 下村 拓也*; 田上 学*; et al.

no journal, , 

高強度超短パルスレーザーを薄膜に照射することによって生成されるMeV級の陽子生成と、その応用研究を発表する。実験は原子力機構と韓国光州科学技術研究所で行った。照射レーザーは直径50mmで、p偏光,45度,焦点距離238mm(Fナンバー4.8)で照射強度3$$sim$$9$$times$$10$$^{18}$$W/cm$$^{2}$$である。ターゲットは銅テープ(5$$mu$$m厚)とポリミド(7.5$$mu$$m)を使用した。ニッケルのメッシュパターンを、陽子イメージはCR39を使用し、X線イメージはイメージングプレートを使用し測定した。

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