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浅野 雅春; 八巻 徹也; 前川 康成; 吉田 勝; 金賀 淳*; 榎田 貴司*
no journal, ,
架橋構造が付与されると、耐熱性,機械的性質等、高分子材料としての諸性質が改善される。全フッ素系高分子のテトラフルオロエチレン・パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体(PFA)は非晶性になると室温付近で容易に放射線架橋することがわかった。そこで、その特性を検討した。60Cのアルゴン雰囲気下で線照射した非晶性PFAの100C時での破断強度は、未照射系に比べて照射系で大幅な向上が確認できた。すなわち、未照射系での破断強度が0.08MPaなのに対し、160kGy, 220kGy, 440kGy照射系では、それぞれ2.0MPa, 2.6MPa, 1.6MPaになった。破断強度は220kGy照射系において最大値を示し、その値は未照射系に比べて32.5倍にまで増大した。
浅野 雅春; 八巻 徹也; 前川 康成; 吉田 勝; 金賀 淳*; 榎田 貴司*
no journal, ,
架橋構造が付与されると、耐熱性,機械的性質等、高分子材料としての諸性質が改善される。分子構造を制御することで得た非晶性のテトラフルオロエチレン・パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)共重合体(PFA)は室温付近の低い温度領域(0-60C)で線照射により架橋した。この非晶性PFAは12-42Cの範囲にガラス転移温度を有しており、照射時の分子運動性が高いことがこのような低温架橋の要因と考えた。架橋した非晶性PFAは、破断強度が上昇し、圧縮永久歪みは減少、さらに圧縮クリープ特性が改善された。また、照射雰囲気では空気存在下に比べアルゴン雰囲気下で照射した系の破断強度は高く、脱酸素による分解反応抑制の効果が示唆された。