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論文

Unique band structure of pressure induced semiconducting state in SmS characterized by $$^{33}$$S-nuclear magnetic resonance measurements

吉田 章吾*; 芳賀 芳範; 藤井 拓斗*; 中井 祐介*; 水戸 毅*; 他8名*

Journal of the Physical Society of Japan, 93(1), p.013702_1 - 013702_5, 2024/01

 被引用回数:0 パーセンタイル:0.01(Physics, Multidisciplinary)

In Kondo insulators, a small energy gap evolves only at low temperatures. In this study, $$^{33}$$S-nuclear magnetic resonance measurements under high pressures are performed to clarify the electronic structure of SmS. The spin-lattice relaxation time, consisting of multiple components, was analyzed based on a periodic Anderson model with Bayesian inference, leading to a peculiar small gap state arising from strong hybridization.

論文

Selective epitaxial growth of Ca$$_{2}$$NH and CaNH thin films by reactive magnetron sputtering under hydrogen partial pressure control

Chon, S.*; 福谷 克之; 他8名*

Journal of Physical Chemistry Letters (Internet), 13(43), p.10169 - 10174, 2022/11

 被引用回数:0 パーセンタイル:0.01(Chemistry, Physical)

Calcium compounds with N and H are promising catalysts for NH$$_{3}$$ conversion, and their epitaxial thin films provide a platform to quantitatively understand the catalytic activities. Here we report the selective epitaxial growth of Ca$$_{2}$$NH and CaNH thin films by controlling the hydrogen partial pressure ($$P_{H_{2}}$$) during reactive magnetron sputtering. We find that the hydrogen charge states can be tuned by $$P_{H_{2}}$$: Ca$$_{2}$$NH containing H$$^{-}$$ is formed at $$P_{H_{2}}<0.04$$ Pa, while CaNH containing H$$^{+}$$ is formed at $$P_{H_{2}}>0.04$$ Pa. In situ plasma emission spectroscopy reveals that the intensity of the Ca atomic emission ($$sim$$422 nm) decreases as $$P_{H_{2}}$$ increases, suggesting that Ca reacts with H$$_{2}$$ and N$$_{2}$$ to form Ca$$_{2}$$NH at lower $$P_{H_{2}}$$, whereas at higher $$P_{H_{2}}$$, CaH$$_{x}$$ is first formed on the target surface and then sputtered to produce CaNH. This study provides a novel route to control the hydrogen charge states in Ca-N-H epitaxial thin films.

論文

Characterization and optimization of ultra slow muon beam at J-PARC/MUSE; A Simulation study

Pant, A. D.*; 髭本 亘; 三宅 康博; 他8名*

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research A, 929, p.129 - 133, 2019/06

 被引用回数:5 パーセンタイル:47.59(Instruments & Instrumentation)

J-PARCにおいて超低速ミュオン顕微鏡の開発を行っている。モンテカルロシミュレーションを行った結果、これまでに試料位置での漏れ磁場の影響があることが示されていた。この影響を最小化するために、四重極電場のバランスを崩したチューニングを行った。これによるビーム輸送に関して、実験エリアU1Aにおけるビームサイズ、時間およびエネルギー分解能等に関しての特性調査と最適化を報告した。

論文

High-intensity laser-driven particle and electromagnetic wave sources for science, industry, and medicine

匂坂 明人; 大道 博行; Pirozhkov, A. S.; 森 道昭; 余語 覚文; 小倉 浩一; 織茂 聡; 西内 満美子; Ma, J.-L.; 桐山 博光; et al.

Frontiers of Optoelectronics in China, 2(3), p.299 - 303, 2009/09

高強度レーザーと薄膜との相互作用により、高エネルギーのイオンや電子,硬X線,高次高調波,テラヘルツ(THz)波などが発生する。高強度チタンサファイアレーザーを用いて、薄膜ターゲットへの照射実験を行った。薄膜ターゲットから発生する陽子線とテラヘルツ波の同時発生を計測した。また、陽子線と紫外高調波についても同時発生を計測した。

報告書

新型転換炉ふげん発電所 原子炉冷却系系統除染法の開発

川崎 昇*; 中村 孝久*; 北端 琢也*; 他8名*

PNC TN3410 89-011, 617 Pages, 1989/07

PNC-TN3410-89-011.pdf:18.87MB

新型転換炉ふげん発電所(以下「ふげん」と略す)では、運開当時、既に先行軽水炉の状況から、運転経過とともに原子炉冷却系の機器・配管に放射性腐食生成物(以下「クラッド」と略す)が蓄積し、線量当量率の上昇が予測された。そのため系統の化学除染(以下「系統除線」と略す)がいずれ必要になることも考慮して、情報の収集に当り、昭和55年に国内外の化学除染技術の公開情報をまとめ、「ふげん」に最適な除染剤について選定・評価してきた。除染剤の選定・評価するための検討項目は、除染性能、構成材健全性への影響、廃液処理性、施工性等種々あるが、できる限りの検討を加え、最終的に国産品の希薄液除染剤であるクリデコン203を選定した。選定以後、約8年をかけて上記項目に対するクリデコン203の基礎データを確認するとともに、実機熱交換器等の除染実証試験を行い、系統除染への適用の見通しを得た。一方、平成元年7月中旬より実施する「ふげん」の第8回定期検査では、原子炉再循環ポンプの分解点検、応力腐食割れ(以下「SCC」と略す)予防対策のための原子炉再循環系下部へッダ部分取替工事等、原子炉建屋内高線量当量率下での作業を計画している。これらの作業を含めた定期検査時の総線量当量は、これまで以上に増大することが予測され、効果的な被ばく低減策の実施が必要な状況にあることから、第8回定期検査時には、2系統ある原子炉冷却系統のうち主要な点検・工事の対象となるA側の片ループについて系統除染を行い、作業被ばくの低減化を図る計画を立てた。この系統除染を実施するに当り、動燃事業団は、科学技術庁に対し系統除染計画の説明を行い、当該計画の妥当性の確認を行った。これに対し、科学技術庁原子炉安全局原子炉規制課は、化学除染、金属材料、金属腐食・水化学等の専門家からなる「原子炉安全技術顧問ふげん発電所化学除染ワーキンググループ」(以下「顧問会」という)を3回開催し、除染の有効性、材料健全性、除染作業の安全性、材料健全性確認追跡調査の妥当性等について諮問を行った。その結果、「ふげん」の系統除染計画の妥当性は確認され、当該計画は了承された。本資料は、動燃事業団がこれまで行ってきた「ふげん」の系統除染に係る研究開発結果及び系統除染計画検討結果を上記顧問会用資料として新たにまとめたものである。また、合わせて上記顧問会における質問事項の回答資料等を添付

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