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玉田 正男; 越川 博; 諏訪 武; 吉岡 照文*; 臼井 博明*; 佐藤 壽彌*
Polymer, 41(15), p.5661 - 5667, 2000/07
被引用回数:17 パーセンタイル:52.03(Polymer Science)N,N'-diphenyl-N,N'-bis(4-methylphenyl)-[I,I'-biphenyl]-4,4'-diamine(TPD)を有する新規アクリルモノマーを合成し、エレクトロルミネッセンス(EL)素子のホール輸送層に応用した。まず、モノマー薄膜を真空蒸着により作製し、その後、真空中で紫外線を照射して予備的に重合させてから、真空を保ったまま400Kまで加熱した。得られた厚さが60nmの薄膜の重合率は96%で薄膜表面は非常に平坦であった。この表面平坦性は420Kの加熱まで維持された。これらの真空蒸着及び重合のプロセスについては反射赤外スペクトルによりその場観察した。この手法で重合した薄膜を用いることにより、モノマー薄膜の場合と比較して約3倍の効率を有するEL素子を作製することができた。
玉田 正男; 越川 博; 細井 文雄; 諏訪 武; 臼井 博明*; 小坂 篤史*; 佐藤 壽彌*
Polymer, 40(1), p.3061 - 3067, 1999/00
トリフェニルアミンメチルアクリレート薄膜を230Kから290Kの範囲のインジューム・スズ酸化物基板上に真空蒸着により作製した。エレクトロルミネッセンス素子の構築を目指して、この薄膜に引き続き真空中でUV光を照射し重合させた。真空中での薄膜の重合をフーリエ変換赤外反射吸収法により調べた。UV光の照射により重合率はほぼ100%に達した。基板温度が高い場合、重合時間は短縮されたが、薄膜表面の凹凸が増加した。重合のメカニズムはモノマー消費速度の次数からラジカル重合機構で説明が可能であった。数平均分子量はUV強度が減少するに従い増加した。