UV polymerization of triphenylaminemethylacrylate thin film on ITO substrate

ITO基板上のトリフェニルアミンメチルアクリレート薄膜の紫外線重合

玉田正男; 越川博; 細井文雄; 諏訪武; 臼井博明*; 小坂篤史*; 佐藤壽彌*

Tamada, Masao; Koshikawa, Hiroshi; Hosoi, Fumio; Suwa, Takeshi; Usui, H.*; not registered; Sato, H.*

トリフェニルアミンメチルアクリレート薄膜を230Kから290Kの範囲のインジューム・スズ酸化物基板上に真空蒸着により作製した。エレクトロルミネッセンス素子の構築を目指して、この薄膜に引き続き真空中でUV光を照射し重合させた。真空中での薄膜の重合をフーリエ変換赤外反射吸収法により調べた。UV光の照射により重合率はほぼ100%に達した。基板温度が高い場合、重合時間は短縮されたが、薄膜表面の凹凸が増加した。重合のメカニズムはモノマー消費速度の次数からラジカル重合機構で説明が可能であった。数平均分子量はUV強度が減少するに従い増加した。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Polymer
巻	:	40
号	:	1
ページ数	:	p.3061 - 3067
発行年月	:	1999/00
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キーワード	:	トリフェニルアミン; アクリレート薄膜; インジューム・スズ酸化物基板; 真空蒸着; 赤外反射吸収法; UV光; 重合; 基板温度; 重合機構; 数平均分子量

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登録番号 : A19970505
抄録集掲載番号 : 270345
論文投稿番号 : 16252

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