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論文

ラジオルミノグラフィによる半導体表面の評価

村岡 久志*; 柴部 禎巳; 野崎 正*; 奥村 勝弥*

表面科学, 14(5), p.288 - 294, 1993/07

https://doi.org/10.1380/jsssj.14.288

ラジオルミノグラフィは輝尽性蛍光体層をもつイメージング・プレートに放射線画像を記憶させ、読取機でデジタル画像データとしてコンピュータ・ディスクに読み込み、画像化と定量解析をおこなう新しいオートラジオグラフィである。シリコン・ウェーハへの$$^{59}$$Feと$$^{64}$$Cuの吸着とこれらの吸着不純物にたいするSC-1(NH$$_{4}$$OH,H$$_{2}$$O$$_{2}$$,H$$_{2}$$O,1:1:5)洗浄の評価にこの方法を適用した。吸着ラジオアイソトープと洗浄後の残存物の分布状態が一目でわかるようになった。ウェーハ上の任意の位置の任意面積のラジオアイソトープ濃度を、検出限界10$$^{8}$$atom/cm$$^{2}$$オーダ、ダイナミックレンジ10$$^{4}$$以上で定量できることがわかった。

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