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論文

PSTEP: Project for solar-terrestrial environment prediction

草野 完也*; 一本 潔*; 石井 守*; 三好 由純*; 余田 成男*; 秋吉 英治*; 浅井 歩*; 海老原 祐輔*; 藤原 均*; 後藤 忠徳*; et al.

Earth, Planets and Space (Internet), 73(1), p.159_1 - 159_29, 2021/12

 被引用回数:6 パーセンタイル:49.29(Geosciences, Multidisciplinary)

PSTEPとは、2015年4月から2020年3月まで日本国内の太陽・地球惑星圏に携わる研究者が協力して実施した科研費新学術領域研究である。この研究枠組みから500以上の査読付き論文が発表され、様々なセミナーやサマースクールが実施された。本論文では、その成果をまとめて報告する。

論文

TiAl表面酸化のシンクロトロン放射光を用いた光電子分光研究

橋之口 道宏*; 角本 雄一*; 戸出 真由美; Harries, J.; 岡田 美智雄*; 寺岡 有殿; 笠井 俊夫*

電気学会論文誌,C, 130(10), p.1723 - 1729, 2010/10

2.2eVという超熱エネルギー領域の並進運動エネルギーを持った酸素分子線(HOMB)を照射してTiAl表面の酸化過程を放射光光電子分光法で研究した。表面温度が300Kのときには、表面近傍でAl$$_{2}$$O$$_{3}$$の偏析を伴ってTi酸化物とAl酸化物が同時に成長した。HOMBを入射した場合の酸化の効率は25meVのエネルギーを持つ酸素分子をバックフィリングで供給した場合に比べて小さい。さらに、TiAl表面に形成される酸化物の化学組成(Al$$_{2}$$O$$_{3}$$, Ti$$_{2}$$O$$_{3}$$, TiO$$_{2}$$)は入射酸素分子線の並進運動エネルギーに依存しなかった。今回の結果はTiAl表面の酸化が前駆的分子吸着状態を経由して進行することを示唆している。

口頭

放射光X線光電子分光によるTiAl酸化過程の研究

橋之口 道宏*; 角本 雄一; 戸出 真由美; 岡田 美智雄*; Harries, J.; 吉越 章隆; 寺岡 有殿; 笠井 俊夫*

no journal, , 

TiAl表面の酸化反応におけるAl酸化物の生成過程を明らかにし、Al酸化膜形成の制御を目的として、放射光光電子分光法を用いてTiAl表面と酸素分子の反応について研究した。実験はSPring-8の日本原子力研究開発機構専用軟エックス線ビームライン(BL23SU)に設置された表面反応解析装置(SUREAC2000)を用いて行った。試料表面(50at.% TiAl多結晶)は、Ar$$^{+}$$イオンスパッタリングとアニーリングにより清浄化した。表面温度673Kにおいて酸素を350 L(Langmuir)曝露したときのTi2p及びAl2pの光電子スペクトルは、清浄表面と比較してピーク位置と形状が大きく変化し、TiとAl原子がともに酸化していることが示された。また、このTi酸化物は加熱(1123K)により減少することが観測された。

口頭

TiAl合金表面酸化過程の放射光X線光電子分光分析

橋之口 道宏*; 角本 雄一; 戸出 真由美; Harries, J.; 寺岡 有殿; 岡田 美智雄*; 笠井 俊夫*

no journal, , 

TiAl合金の表面酸化反応には試料温度や酸素分圧が大きく影響しており、その酸化メカニズムは複雑である。本研究では試料温度と酸素分子の入射エネルギーを制御し、TiAl合金の初期酸化過程を放射光光電子分光(SR-XPS)を用いて検証した。実験はSPring-8の原子力機構専用軟X線ビームライン(BL23SU)に設置した表面反応分析装置(SUREAC2000)を用いて行った。試料(TiAl多結晶)はArイオンスパッタリングとアニールにより表面清浄化した。清浄表面に超熱酸素分子線を照射し、SR-XPSにより分析を行った。また清浄表面を酸素雰囲気に曝露し、同様の分析を行うことで入射する酸素分子の運動エネルギー効果を調べた。

口頭

The Study of oxidation on TiAl with photoemission spectroscopy in conjunction with synchrotron radiation

橋之口 道宏*; 角本 雄一; 戸出 真由美; Harries, J.; 岡田 美智雄*; 寺岡 有殿; 笠井 俊夫*

no journal, , 

チタン基合金は、水素貯蔵材料として大変注目されてきた。しかしながら、表面に形成される酸化膜によって表面での水素の解離における初期活性に影響を与えることが問題となっている。したがって、その酸化膜の組成及び構造を理解することは重要である。本研究では、超熱酸素分子線(HOMB)及び放射光X線光電子分光を用いてTiAl合金表面の酸化過程について検証した。

口頭

放射光X線光電子分光を用いたTiAl表面酸化反応の研究

橋之口 道宏*; 角本 雄一*; 戸出 真由美; 岡田 美智雄*; Harries, J.; 寺岡 有殿; 笠井 俊夫*

no journal, , 

本研究では、超熱酸素分子線と放射光光電子分光を用いて、TiAl表面酸化反応を調べた。酸化の効率は、入射する酸素分子の並進エネルギーの増加に伴い減少した。また、反応により生成したAl$$_{2}$$O$$_{3}$$, Ti$$_{2}$$O$$_{3}$$やTiO$$_{2}$$等の酸化物の生成比は、並進エネルギーに影響されないことが示された。これらの結果は、酸素分子が表面に分子状吸着した後に解離する前駆体を経由する過程でおもに反応が進行していることを示唆している。

口頭

放射光X線光電子分光を用いたTiAl表面酸化反応の研究

橋之口 道宏*; 角本 雄一*; 戸出 真由美; Harries, J.; 岡田 美智雄*; 寺岡 有殿; 笠井 俊夫*

no journal, , 

本研究では超熱酸素分子線と放射光光電子分光を用いてTiAl表面酸化反応を調べた。酸化の効率は入射する酸素分子の並進エネルギーの増加に伴い減少した。また、反応により生成したAl$$_{2}$$O$$_{3}$$, Ti$$_{2}$$O$$_{3}$$やTiO$$_{2}$$等の酸化物の生成比は並進エネルギーに影響されないことが示された。これらの結果は酸素分子が表面に分子状吸着した後に解離するという前駆体を経由する過程でおもに反応が進行していることを示唆している。

口頭

イオンビーム照射によって得られた葉緑素欠乏ダイズ系統における種子成分の変化

土屋 真弓*; 河西 めぐみ*; 阿部 純*; 金澤 章*; 野澤 樹; 長谷 純宏; 鳴海 一成

no journal, , 

ダイズにおいて、イオンビーム照射により突然変異を誘発するための条件検討を行い、最適化された条件で照射した植物体の自殖後代の集団を作出してきた。本発表では、この集団中の葉緑素欠乏突然変異を示す系統において見いだされた、種子成分の変化について報告する。葉緑素欠乏突然変異を示す個体を育成して採種し、M3及びM4世代の完熟種子に含まれる成分として、イソフラボン,タンパク質,脂肪酸,デンプンの含量を高速液体クロマトグラフィー,ガスクロマトグラフィー、並びに吸光度測定により分析した。その結果、分析に用いた4系統の種子すべてにおいて、タンパク質の含有率が増加していた。これらの系統は、種子における成分組成の制御機構の解析に利用可能であると考えられる。今後、遺伝解析を行うことにより、葉緑素欠乏並びに種子成分の変化をもたらした遺伝機構を明らかにできるものと期待できる。

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