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富満 広; C.Zeyen*
Japanese Journal of Applied Physics, 17(3), p.591 - 592, 1978/03
被引用回数：4原研が中心になって行った中性子回折トポグラフィ技法を用いた最近の実験を速報の形でまとめたものである。第一は、ILLの高中性子束炉を用いた実験で、Si双晶片における等原干渉縞の観察結果、および双晶各片がそれぞれ333反射と115反射とを同時に生じ、両片が可干渉の関係にあることの結論を報告する。(国外との共同研究) 第二は、JRR-2のトポグラフィ装置を用いて、直径30mmのCu-5%Ge合金単結晶の観察である。ブリッジマン法で作られたインゴットの内部構造が、表面の目視監察と良く符合して、3種類の{100}面に平行な面状にGeが偏析を生じているらしいことが観察された。
