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multilayers for use in the soft X-ray region石野 雅彦; 小池 雅人; 兼平 美香*; 佐藤 二美*; 寺内 正己*; 佐野 一雄*
Journal of Applied Physics, 102(2), p.023513_1 - 023513_5, 2007/07
被引用回数：6 パーセンタイル：26.4(Physics, Applied)Co/SiO多層膜は1keVよりも高エネルギーのX線領域で高い反射率を実現することから、反射鏡や多層膜回折格子などの光学素子への応用が進められている。しかし、光学素子を高輝度放射光のような高い熱負荷を伴う光源で使用する場合や実験装置のベーキング処理などを考えた場合、高い耐熱性も求められるが、Co/SiO多層膜の耐熱性についての知見はない。本研究ではCo/SiO多層膜の耐熱性評価を目的として、Si基板上にイオンビームスパッタリング法によって成膜した多層膜試料に対して100-600
Cの温度で真空加熱処理を行い、熱処理による多層膜構造及び光学的特性の変化を、X線回折測定,軟X線反射率測定、そして透過型電子顕微鏡観察により評価した。その結果、400Cまでの熱処理に対して、多層膜試料は熱処理前の構造と軟X線反射率を維持し、十分実用的な耐熱性を有することを確認した。また、多層膜構造の劣化は500C以上で発生し、Co層の凝集とCo結晶の成長が原因であることがわかった。
多層膜光学素子の生成と評価石野 雅彦; 小池 雅人; 兼平 美香*; 佐藤 二美*; 寺内 正己*; 佐野 一雄*; Heimann, P. A.*; Gullikson, E. M.*
no journal, ,
ラミナー型ホログラフィック回折格子を基板として、その表面にCo/SiO多層膜をイオンビームスパッタリング法により成膜することで、Co/SiO多層膜回折格子を作製した。作製した多層膜回折格子の回折効率をX線回折装置と放射光施設で測定した結果、1.5-8keVの広いエネルギー範囲において10%以上の回折効率を示すことを確認した。特に4-6keVにおいては40%以上の回折効率を実現しており、6keVでの効率は47%であった。次にCo/SiO多層膜の耐熱性を評価するために、真空加熱炉による熱処理を100Cから600Cまでの温度で1時間行った。X線回折測定,透過型電子顕微鏡観察,軟X線反射率測定から多層膜構造と光学特性の変化を評価した結果、Co/SiO多層膜は400Cまでの熱処理に対して熱処理前の構造と反射率を維持することを確認した。Co/SiO多層膜とSiOやSiC等の耐熱性基板とを組合せたCo/SiO多層膜光学素子は実用的な耐熱性を持つと考えられることから、高輝度光源での利用にも高い安定性(耐熱性)を備えた高効率光学素子として機能することが期待される。
川崎 通夫*; 瀧澤 美聡*; 兼平 沙季*; 崎尾 実香*; 本多 和茂*; Islam, M. N.*; 須藤 宏樹*; 野澤 樹; 秋田 祐介*; 鳴海 一成
no journal, ,
本研究では、ナガイモとヤマノイモを用いて、イオンビームを用いた突然変異体作出に関する知見を得ること、さらには品種改良や諸研究に有効な変異体を得ることを目的とし、両材料のむかごにヘリウム(He)イオンビームを照射した。イオンビーム照射したむかごの萌芽率,変異体出現率を調査し、それらと照射線量やむかごの大きさとの関係性について検討した。その結果、大きいむかごを用いる方が、Heイオンビーム照射後の萌芽率が高くなることが示され、かつ、変異体出現率が高まる傾向が示された。また、変異体を出現させるうえで効率的な照射線量は、ナガイモでは60Gyであることが示唆された。
