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論文

Present status and future prospect of JRR-3 and JRR-4

桜井 文雄; 堀口 洋二; 小林 晋昇; 高柳 政二

Physica B; Condensed Matter, 311(1-2), p.7 - 13, 2002/01

 被引用回数:9 パーセンタイル:45.24(Physics, Condensed Matter)

JRR-3は1985-1990年において、利用ニーズに対応するため大改造され、その後中性子ビーム実験を中心に利用されている。さらに、使用済み燃料発生の抑制のためのシリサイド燃料化を1999年に実施した。また、ビーム利用要求の増大に対応するために、熱中性子ビーム導管のスーパーミラー化を1998年から実施している。JRR-4においては、1996-1998年において、低濃縮シリサイド燃料化,原子炉施設の更新,医療照射設備の新設等を実施した。JRR-3の将来計画としては、連続中性子ビームの特徴を考慮し、物質・生命科学を中心とした中性子利用研究の一層の推進を図るための設備の整備を進め、大陽子加速器との相補的利用を図る。JRR-4については、医療設備を中心に利用促進を図る。

口頭

Industrial application of neutron stress measurement in Japan

齊藤 徹; 林 真琴*; 小林 晋昇*; 森井 幸生

no journal, , 

近年、各メーカは、生産コスト削減のために最も適切な製造工程の検討を行っている。特に、材料の製作や加工技術の向上,安価な材料への切り替えが検討されている。これらを再検討するためには、材料強度の安全性・信頼性の検討は最重要課題である。企業の多くはX線応力測定又は有限要素法(FEM)等によって応力・ひずみの評価を行っている。非破壊で材料内部の応力・ひずみを評価できるのは、中性子回折法だけである。日本では2006年より中性子利用技術移転推進プログラム(トライアルユース実験)を開始している。これまで行ってきたトライアルユース実験においては、ボイラー水管の応力評価,浸炭材の応力評価,大型構造物の測定を模擬した溶接材の応力分布評価等について行った。この会議ではトライアルユース実験で実施された幾つかの実験例を報告する。

口頭

産業利用のためのトライアルユース実験における中性子残留応力測定の成果

齊藤 徹; 林 眞琴*; 小林 晋昇*; 森井 幸生

no journal, , 

製造業界において、近年の価格競争に伴う製造コスト削減を目的とした製造工程の見直し、材料の製作・加工技術の向上、安価な外国製材料の使用等が検討又は実際に行われている。そのため、材料強度としての安全性・信頼性の検討は最重要課題である。メーカーにおいてはX線応力測定による表面近傍の応力・ひずみ評価、又は、有限要素法解析(FEM)等による材料表面及び内部の評価は行ってはいるものの、非破壊測定による製品内部の応力・ひずみ評価を試みている企業は少ない。2006年春より、文部科学省の委託事業の一環として中性子利用技術移転推進プログラムが開始されており、中性子残留応力測定に関する分野においても、これまでに幾つかのトライアルユース実験が行われてきた。JAEAにおける産業利用のためのトライアルユース実験(中性子応力測定)の現状紹介として、これまで行ってきた幾つかのトライアルユース実験の成果について紹介する。

口頭

産業利用のための残留応力評価に関するトライアルユース実験の成果

齊藤 徹; 林 眞琴*; 森井 幸生; 小林 晋昇*

no journal, , 

2006年春より文部科学省の委託事業の一環として中性子利用技術移転推進プログラム(通称:トライアルユース)が開始されており、中性子残留応力測定に関する分野においても、これまでに幾つかのトライアルユース実験が行われてきた。これらの実験では、ボイラー水管の応力評価,大型構造物を模擬した引張試験による溶接近傍内部のひずみ分布評価等について行った。また、産業界からの測定ニーズは高いものの中性子応力測定では困難とされてきた粗大結晶粒材について、揺動法による中性子応力測定への適用可能性についても検討を行った。日本原子力研究開発機構(JAEA)における産業利用のためのトライアルユース実験(中性子応力測定)の現状紹介として、これまで行ってきた幾つかのトライアルユース実験の成果について紹介する。

口頭

Present status of production of neutron-transmutation-doped-silicon in JRR-3 and JRR-4

楠 剛; 馬籠 博克; 竹内 真樹; 小林 晋昇*; 山下 清信

no journal, , 

日本原子力研究開発機構では、現在、研究炉JRR-3及びJRR-4においてシリコンの照射による半導体生産を行っている。JRR-3では、炉心を取り囲む重水タンク領域に設けられた照射設備でシリコンを照射している。この設備では、最大直径約152mm(6インチ),長さ600mmまでのインゴットに中性子を均一に照射することができる。JRR-4では、炉心近傍の照射設備でシリコンの照射を行っており、最大約125mm(5インチ),長さ400mmまでのインゴットが照射可能である。2006年度のNTD年間生産量は、JRR-3が約3.7トン、JRR-4が約0.7トンであった。現在、シリコンインゴット大口径化等によるJRR-3のNTD-Si増産方法を検討している。

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