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小松 遊矢*; 清水 亮太*; 佐藤 龍平*; Wilde, M.*; 西尾 和記*; 片瀬 貴義*; 松村 大樹; 齋藤 寛之*; 宮内 雅浩*; Adelman, J. R.*; et al.
Chemistry of Materials, 34(8), p.3616 - 3623, 2022/04
被引用回数：9 パーセンタイル：75.04(Chemistry, Physical)Here, we demonstrate such a highly repeatable photoinduced insulator-to-metal transition in yttrium oxyhydride (YO
H
) epitaxial thin films. The temperature (
) dependence of the electrical resistivity (
) of the films transforms from insulating to metallic (
) under ultraviolet laser illumination. The sample is heated (125 
C) under an Ar atmosphere to recover its original insulating state. The films recover their original metallic conductivity when subsequently subjected to ultraviolet laser illumination, showing repeatable photoinduced insulator-to-metal transition. First principles calculations show that the itinerant carriers originate from the variations in the charge states of the hydrogen atoms that occupy octahedral interstitial sites. This study indicates that tuning the site occupancy (octahedral/tetrahedral) of the hydrogen atoms exerts a significant effect on the photoresponse of metal hydrides.
小池 雅人; 宮内 真二*; 佐野 一雄*; 今園 孝志
Nanophotonics and Nanofabrication, p.179 - 191, 2009/05
光学近接場技術に基づいた新しいリソグラフィーを用いて製作したラミナー型回折格子の表面にMo/SiO
多層膜を蒸着して7600本/mmの多層膜回折格子を製作した。0.7
2.0nmの波長範囲で回折効率を放射光施設で測定した。その結果、溝深さ3nm,多層膜周期5.33nmの多層膜回折格子は0.70nm(1.77keV),入射角88.020度で0.032, 1.19nm(1.04keV)入射角85.230度で0.016の回折効率を示した。また、実験的,理論的な回折効率の差をDebye-Waller因子により解析を行った。
宮内 真二*; 小池 雅人
島津評論, 62(3-4), p.193 - 199, 2006/03
回折効率に関する解析手法はさまざまなものが提案されてきたが、どの解析手法も計算精度を上げるためには、より細かな要素を設定したり、より高いフーリエ級数成分まで計算したりすることを避けることができない。一般的にそれらは巨大な行列問題に帰されることとなり、演算装置の能力(CPU速度,メモリー容量)により何がしかの制約を受けざるを得ないというのが現状である。本稿では、代表的な解析手法である厳密結合波解析(RCWA)と境界要素法(BEM)の理論を紹介する。そして、それぞれの解析手法に適した波長領域を理論的に考察し、実験や解析結果と比較することでその妥当性を明らかにする。
宮内 真二*; 小池 雅人
島津評論, 62(3-4), p.193 - 199, 2006/03
回折効率に関する解析手法はさまざまなものが提案されてきたが、どの解析手法も計算精度を上げるためには、より細かな要素を設定したり、より高いフーリエ級数成分まで計算したりすることを避けることができない。一般的にそれらは巨大な行列問題に帰されることとなり、演算装置の能力(CPU速度,メモリー容量)により何がしかの制約を受けざるを得ないというのが現状である。本稿では、代表的な解析手法である厳密結合波解析(RCWA)と境界要素法(BEM)の理論を紹介する。そして、それぞれの解析手法に適した波長領域を理論的に考察し、実験や解析結果と比較することでその妥当性を明らかにする。
小池 雅人; 川添 忠*; 今園 孝志; 宮内 真二*; 佐野 一雄*; 大津 元一*
no journal, ,
数keVの軟X線域での分光計測の必要性が高まっている。従来の回折格子は、格子定数が数百nm以上あり分散が小さいためkeV領域では実用的な分解能を期待できない。このため、本研究では最近開発された近接場光リソグラフィー装置を用いて数keVの軟X線域用の高刻線密度(7600本/mm)ラミナー型回折格子(格子定数:132nm)を製作した。この方式の利点は上述の高刻線密度回折格子を実用的サイズである5mm角で製作可能なほか、ゾーンプレートのように不等間隔で湾曲した格子溝を数メートルの凹面基板上に製作が可能であることなど、拡張性に富んでいる点にある。次に、数keV領域で高い反射率を呈するMo/SiO多層膜(膜周期:約5nm,30対)を回折格子面上に蒸着した。製作した多層膜回折格子の回折効率を0.8-1,7keV領域で立命館大学SRセンターBL-11(軟X線光学素子評価装置)を用いて測定した。その結果、数度程度の比較的大きな斜入射角において2%以上の高い回折効率が得られたほか、回折効率カーブのバンド幅は測定エネルギーの10%程度あった。このことはCCDなどのイメージング装置を用いた同時分光測定への応用の可能性があることを示唆している。
