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論文

Molecular beam studies of the photodissociation of benzene at 193 and 248 nm

横山淳; X.Zhao*; E.J.Hintsa*; R.E.Continetti*; Y.T.Lee*

Journal of Chemical Physics, 92(7), p.4222 - 4233, 1990/04

https://doi.org/10.1063/1.457780

被引用回数：104 パーセンタイル：94.99(Chemistry, Physical)

レーザー・分子線交差法により193および248nmでのベンゼン(C $_{6}$ H $_{6}$ )の光分解過程を研究した。一光子吸収の結果、193nmではH脱離(C $_{6}$ H $_{5}$ +H)、H $_{2}$ 脱離(C $_{6}$ H $_{4}$ +H $_{2}$ )、CH $_{3}$ 脱離(C $_{5}$ H $_{3}$ +CH $_{3}$ )の三つの分解反応が、248nmではH $_{2}$ 脱離、CH $_{3}$ 脱離の二つの分解反応が競争的に起こることを見出した。また、これらの反応はベンゼンの電子励起状態( $^{1}$ B $_{1u}$ または $^{1}$ B $_{2u}$ )からの内部転換によって生成する振動励起した基底状態ベンゼンを経由して起こることがわかった。さらに二光子吸収による二つのC $_{3}$ H $_{3}$ への解離および多くの二次光分解反応も観測された。

論文

Dissociation of cyclohexene and 1, 4-cyclohexadiene in a molecular beam

X.Zhao*; R.E.Continetti*; 横山淳; E.J.Hintsa*; Y.T.Lee*

Journal of Chemical Physics, 91(7), p.4118 - 4127, 1989/10

https://doi.org/10.1063/1.456841

被引用回数：39 パーセンタイル：81.34(Chemistry, Physical)

193nmおよび赤外多光子励起によるシクロヘキセンと1,4-シクロヘキサジエンの光分解過程を研究した。193nm光照射では、シクロヘキセンのretro-Diels-Alder反応および両分子のH $_{2}$ 脱離反応が内部転換により生成した基底状態を経由して起こることを見出した。またretro-Diels-Alder反応は協奏的に進むことを明らかにした。さらに、基底状態のポテンシャルエネルギー曲面上での協奏反応によって放出させる並進エネルギーと励起方法や内部エネルギーとの相関について議論した。