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Fe
O
with distributed equivalent circuit model深田 幸正*; 福山 諒太*; 藤原 孝将*; 吉井 賢資; 重松 圭*; 東 正樹*; 池田 直*
Journal of the Physical Society of Japan, 90(2), p.024710_1 - 024710_6, 2021/02
被引用回数：2 パーセンタイル：30.35(Physics, Multidisciplinary)LuFeOのインピーダンス測定を行った。この系は、電子強誘電体
FeO
(:希土類)の関連系であり、鉄スピンによる磁気秩序と、鉄イオンが実空間で秩序化することによる誘電性が重畳したマルチフェロイック系である。得られた実験データを説明するため、抵抗成分と容量成分がそれぞれ分布を持って直列接続した新しい等価回路を提案した。このモデルにより数値解析を行ったところ、温度履歴を記憶することによるエージング効果やメモリ効果といった電荷自由度のグラス的挙動が見いだされた。このようなグラス的挙動は非平衡物理の問題として長年研究されているが、標記の系で見いだされたのは初めてであり、本系の性質について一石を投じる結果である。他にいくつかの興味深い現象も見いだされた。例えば抵抗成分と容量成分の間には比例関係があることが見いだされたが、これは鉄電荷が秩序化することによる誘電性の存在を支持する結果である。
小松 遊矢*; 清水 亮太*; Wilde, M.*; 小林 成*; 笹原 悠輝*; 西尾 和記*; 重松 圭*; 大友 明*; 福谷 克之; 一杉 太郎*
Crystal Growth & Design, 20(9), p.5903 - 5907, 2020/09
被引用回数：5 パーセンタイル：46.4(Chemistry, Multidisciplinary)This paper reports the epitaxial growth of EuH thin films with an 
-scan full width at half-maximum of 0.07
, the smallest value for metal hydride thin films reported so far. The thin films were deposited on yttria-stabilized ZrO (111) substrates using reactive magnetron sputtering. The magnetization measurement showed that the saturation magnetization is 
7 
/Eu atom, indicating that the EuH
films are nearly stoichiometric (x 
2.0) and that the Curie temperature is 20 K. The optical measurements showed a bandgap of 1.81 eV. These values are similar to those previously reported for bulk EuH. This study paves the way for the application of metal hydrides in the field of electronics through the fabrication of high-quality metal hydride epitaxial thin films.
FeO深田 幸正*; 吉井 賢資; 藤原 孝将*; 林 直顕*; 福田 竜生; 水牧 仁一朗*; 重松 圭*; 東 正樹*; 武田 全康; 池田 直*
no journal, ,
希土類-鉄酸化物LuFeOの磁性と誘電性について調べた。この物質は、申請者らが報告した強誘電体RFeO(R: 希土類)の関連物質であり、室温で鉄電荷秩序による強誘電性が報告されているものの、物性の報告例は少ない。本研究では多結晶及び単結晶のLuFeOの物性を調べた。磁化測定からは、磁気転移温度は270K近傍であり、RFeOの250Kより高いことが分かった。また誘電率測定からは、誘電率が120K近傍でブロードなピークを描くことが分かった。さらに、誘電応答における系の均一性を示す指数もこの付近でピークを描き、120Kより低温では系は均質に近づいてゆくことも判明した。ブロードなピークは交流帯磁率測定からも観測されており、この物質の磁性と誘電性の相関を示す結果が得られた。
