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杉山 僚; 奈良 康永; 和田 謙吾*; 福山 裕康
Journal of Materials Science; Materials in Electronics, 15(9), p.607 - 612, 2004/09
Nd:YVOレーザー結晶に放熱板として作用するYVO母結晶の接合を試みた。接合面の処理法にはこれまでの化学処理に代わる新たなドライエッチング処理を研磨後の結晶表面に適用した。接合のための熱処理プロセスにおいて、析出物の抑制には873Kの熱処理が必要であった。33mmの接合面を評価するために光学散乱測定及び波面歪み測定を行った。この結果、接合面での光学散乱密度は4.610/cm以下であり、また光学歪みは633nmにおいて0.04波長程度と推測された。さらに拡大観察試験では、接合界面においても結晶内部と同様に原子が規則正しく整列した状態を確認した。また、YVO結晶中のNdイオンの拡散定数は873Kにおいて2.310m/secと推測された。
中川 敦引*; 廣安 知之*; 森林 健悟; 剣持 貴弘*; 和田 元*
no journal, ,
放射線損傷メカニズムを解明するため、DNA塩基の電子電離断面積の評価が必要となる。実験的に断面積を測定するには、DNAを高温の蒸気として真空内に導入し、電子衝撃反応を起こすことが一般的である。蒸発の際、供給DNAは加熱により一部分解している可能性がある。そこで計測の際の電子衝撃やイオンアタッチメント時の分子フラグメンテーションがDNAを蒸散させる際の温度によりどのように変化するか理論的,実験的に調査する必要がある。そこで本研究ではDNA塩基のうちアデニンに注目し、蒸散供給する際の分子量を実験的に計測する。最終的には、電荷付与時の分子の分解を低減するためイオン付着法を採用する予定であるが、その前段階として、電子衝撃時の分子分解について実験を行う。講演では、電子衝撃時の分子分解の実験装置の概要及びこの電子衝撃によるフラグメーションパターンの解析結果を示す。