• help
  • PC | SP
  • JP | EN
          
検索対象：     
報告書番号：
※ 半角英数字
 年 ～ 
 年
全てクリア
前の画面に戻る

Interfacial properties of a direct bonded Nd-doped YVO$$_{4}$$ and YVO$$_{4}$$ single crystal

直接接合型Nd:YVO$$_{4}$$及びYVO$$_{4}$$結晶の接合界面の特性評価

杉山 僚; 奈良 康永; 和田 謙吾*; 福山 裕康

Sugiyama, Akira; Nara, Yasunaga; Wada, Kengo*; Fukuyama, Hiroyasu

Nd:YVO$$_{4}$$レーザー結晶に放熱板として作用するYVO$$_{4}$$母結晶の接合を試みた。接合面の処理法にはこれまでの化学処理に代わる新たなドライエッチング処理を研磨後の結晶表面に適用した。接合のための熱処理プロセスにおいて、析出物の抑制には873Kの熱処理が必要であった。3$$times$$3mmの接合面を評価するために光学散乱測定及び波面歪み測定を行った。この結果、接合面での光学散乱密度は4.6$$times$$10$$^{6}$$/cm$$^{3}$$以下であり、また光学歪みは633nmにおいて0.04波長程度と推測された。さらに拡大観察試験では、接合界面においても結晶内部と同様に原子が規則正しく整列した状態を確認した。また、YVO$$_{4}$$結晶中のNd$$^{3+}$$イオンの拡散定数は873Kにおいて2.3$$times$$10$$^{-23}$$m$$^{2}$$/secと推測された。

Laser crystal bonding of a neodymium-doped yttrium orthovanadate (Nd: YVO$$_{4}$$) and a non-doped yttrium orthovanadate (YVO$$_{4}$$) crystal as a cold finger has been demonstrated. Instead of a traditional chemical treatment, a newly developed dry etching process was applied to the preparation for contact of mechanically polished surfaces. In the subsequent heat treatment process, stable heating at 873 K was required to prevent precipitation at the bonded interface. The bonded interface of 3 mm $$times$$ 3 mm was investigated by optical scattering and wavefront distortion measurements. The scattering density around the bonded interface was less than 4.6$$times$$10$$^{6}$$ /cm$$^{3}$$ and the wavefront distortion caused by the bonded region was assumed to be around 0.04-wave at 633 nm. Additional magnified inspection showed that atoms in the bonded region were well arranged with the same regularity as the bulk crystal. The diffusion coefficient of Nd$$^{3+}$$ ions in the YVO$$_{4}$$ crystal was estimated at 2.3$$times$$10$$^{-23}$$ m$$^{2}$$/sec at 873 K.

使用言語

 :

English

掲載資料名

 :

Journal of Materials Science; Materials in Electronics

巻

 :

15

号

 :

9

ページ数

 :

p.607 - 612

発行年月

 :

2004/09

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

Direct Bonding; Laser Crystals; Nd:YVO$$_{4}$$; Laser Tomography; Transmitted Wavefront; TEM; EDX

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

研究データの公開先DOI

 :

本成果にかかわる研究データのリンクです。

使用施設

 :

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

 :

受委託・共同研究相手機関

 :

Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

Altmetrics

 :

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.

前の画面に戻る