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論文

Heat stability of Mo/Si multilayers inserted with silicon oxide layers

石野 雅彦; 依田 修; 佐野 一雄*; 小池 雅人

X-Ray Mirrors, Crystals, and Multilayers II (Proceedings of SPIE Vol.4782), p.277 - 284, 2002/12

Mo/Si多層膜の耐熱性向上を目的に、多層膜界面に厚さ2.0nmのSiO$$_{2}$$を挿入した試料を成膜した。多層膜試料の耐熱性を評価するため、600$$^{circ}C$$までの熱処理を行った。その結果、Mo-on-Si表面にSiO$$_{2}$$層を挿入したMo/Si/SiO$$_{2}$$多層膜が400$$^{circ}C$$における熱処理後も高い軟X線反射率を維持することがわかった。各界面にSiO$$_{2}$$層を挿入したMo/SiO$$_{2}$$/Si/SiO$$_{2}$$多層膜は、高い耐熱性を有するが、酸素による吸収が大きいため、高い軟X線反射率が期待できない。SiO$$_{2}$$層による軟X線反射率の低下を抑えるために、Mo/Si多層膜界面に挿入するSiO$$_{2}$$層の厚さの最適化を試みた結果、Si-on-Mo界面に0.5nm,Mo-on-Si界面に1.5nmのSiO$$_{2}$$層を挿入したMo/SiO$$_{2}$$/Si/SiO$$_{2}$$多層膜が高い耐熱性と高い軟X線反射率を持つことを見いだした。

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