Heat stability of Mo/Si multilayers inserted with silicon oxide layers

石野 雅彦; 依田 修; 佐野 一雄*; 小池 雅人

X-Ray Mirrors, Crystals, and Multilayers II (Proceedings of SPIE Vol.4782), p.277 - 284, 2002/12

Mo/Si多層膜の耐熱性向上を目的に、多層膜界面に厚さ2.0nmのSiOを挿入した試料を成膜した。多層膜試料の耐熱性を評価するため、600までの熱処理を行った。その結果、Mo-on-Si表面にSiO層を挿入したMo/Si/SiO多層膜が400における熱処理後も高い軟X線反射率を維持することがわかった。各界面にSiO層を挿入したMo/SiO/Si/SiO多層膜は、高い耐熱性を有するが、酸素による吸収が大きいため、高い軟X線反射率が期待できない。SiO層による軟X線反射率の低下を抑えるために、Mo/Si多層膜界面に挿入するSiO層の厚さの最適化を試みた結果、Si-on-Mo界面に0.5nm,Mo-on-Si界面に1.5nmのSiO層を挿入したMo/SiO/Si/SiO多層膜が高い耐熱性と高い軟X線反射率を持つことを見いだした。