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岡田 漱平
Radioisotopes, 42(7), p.423 - 436, 1993/07
世界のさまざまな研究機関における陽電子及び陽電子ビーム利用に関して、発生方法の現状、利用研究分野の現状と今後の展望、世界の高強度単色陽電子ビーム発生施設計画を中心に解説する。
岡田 漱平; 須永 博美; 金子 広久; 橘 宏行; 四本 圭一; 岡本 次郎
放射線, 18(2), p.63 - 81, 1992/05
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個/秒以上の強度の低速陽電子ビームを発生させ高度な材料キャラクタリゼーションや基礎物理・化学・生物学の新分野に応用することを目的としたポジトロンファクトリー計画について、以下の項目を概説した。(1)低速陽電子ビーム利用の動向と高強度ビームの必要性、(2)高強度低速陽電子ビームの発生方法、(3)ポジトロンファクトリー計画の概要、(4)ポジトロンファクトリーの検討、1)高出力電子リニアック:100乃至150MeV、100kW級のリニアックの製作可能性を、技術調査の結果確認した。2)ターゲット系:モンテカルロ計算に基き、同時に複数のチャンネルに陽電子ビームを取り出す方式を提示した。
岡田 漱平; 須永 博美
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, 56-57, p.604 - 609, 1991/00
被引用回数：17 パーセンタイル：84.02(Instruments & Instrumentation)高出力電子リニアックを用いて発生させた高強度エネルギー可変単色陽電子ビームを、材料キャラクタリゼーションや基礎研究に用いる予定のポジトロンファクトリーにおいて、当面の低速陽電子ビーム強度の目標は、10s
である。経験値に基づく控え目な評価では、100MeV、100kWクラスのリニアックによって、この強度の達成が可能であると見積もられる。本報告では、リニアックのターゲット系に関し、モンテカルロ法を用いた陽電子モデレータ等の最適化や、遮へい、放射化空気の閉込め・排気などに係る概念設計の現状を述べる。
