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論文

薄いガス層の真空の熱抵抗とその利用

林喬雄; 工藤光雄*

日本機械学会誌, 73(618), p.937 - 945, 1970/00

http://ci.nii.ac.jp/naid/110002468582

発熱源から冷却体にいたる熟の流れの途中に設けた萍いガス層内のガフ圧力を,Torrの程度の低い真空の下で変化せしめて,そのガス眉の熟抵抗を変化させ,発熱源を含む媒体の温度を制御する新しい温度制御の方法を開発し,原子炉内での照射物質の温度制御に利用してよい結果を得た.この制御の手段は,このほかにも種々なる工業利用の面が期待される.