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研究開発報告書類（JAEA-Research等）学会誌等掲載論文口頭発表特許

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論文

Reduction of freely migrating defect concentrations by cascade remnants in Ni-Si alloys

岩瀬彰宏; Rehn*; Baldo*; Funk*

Journal of Nuclear Materials, 244(2), p.147 - 152, 1997/00

https://doi.org/10.1016/S0022-3115(96)00734-9

被引用回数：4 パーセンタイル：37.06(Materials Science, Multidisciplinary)

Ni-Si合金中の自由欠陥が、Neイオン照射によって導入されたカスケード欠陥と相互作用し、その結果、自由欠陥濃度が著しく減少することを示した。