Edge structure in JT-60U high density H-mode plasmas

JT-60Uの高密度高閉じ込めプラズマにおける周辺Hモード構造

福田 武司; 土屋 勝彦; 波多江 仰紀; 浦野 創*; 鎌田 裕; 坂本 宜照; 櫻井 真治; 竹永 秀信; 久保 博孝; 朝倉 伸幸; 藤田 隆明; 滝塚 知典

Fukuda, Takeshi; Tsuchiya, Katsuhiko; Hatae, Takaki; Urano, Hajime*; Kamada, Yutaka; Sakamoto, Yoshiteru; Sakurai, Shinji; Takenaga, Hidenobu; Kubo, Hirotaka; Asakura, Nobuyuki; Fujita, Takaaki; Takizuka, Tomonori

高密度プラズマで優れた閉じ込め性能を維持することは、近年の重要な課題である。本研究では、高密度プラズマにおける周辺輸送障壁の構造形成と維持に注目した解析を行い、閉じ込め改善の鍵を握る電場の捩れが高密度プラズマでは弱くなること及びプラズマ周辺部の密度が平均密度に対して非線形的に増大して温度が低下する結果、同時にペデスタル幅(周辺輸送障壁の幅)が減少することを明らかにした。また、プラズマ周辺部の密度が輸送障壁の形成に直結することから、周辺輸送障壁の形成に必要な加熱入力が高密度プラズマでは顕著に増大することがわかった。さらに、高密度プラズマの周辺部における中性粒子密度の評価を行い、中性粒子が輸送障壁の形成条件及び維持のいずれにも直接的には関与しないことを明らかにした。そのほか、プラズマ内部における輸送障壁の制御によって周辺輸送障壁の形成を促進することができることを示した。

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