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Tritium decontamination from co-deposited layer on tungsten substrate by ultra violet lamp and laser

紫外線ランプとレーザーを用いたトリチウム除染研究

大矢 恭久; 田所 孝広*; 洲 亘; 林 巧; 大平 茂; 西 正孝

Oya, Yasuhisa; Tadokoro, Takahiro*; Shu, Wataru; Hayashi, Takumi; Ohira, Shigeru; Nishi, Masataka

炭素繊維強化複合材(CFC)とタングステン基板に共堆積層を模擬した膜をアセチレン(C$$_{2}$$H$$_{2}$$またはC$$_{2}$$D$$_{2}$$)雰囲気下でのグロー放電により作成した。この膜にキセノンエキシマランプからの172nmまたはArFエキシマレーザーからの193nmの紫外線を照射し、質量分析器により放出ガスの分析を行った。照射前後の膜における水素同位体の深さ分布を弾性反跳粒子検出法と二次イオン質量分析法により測定した。紫外線ランプ照射によって水素,炭素や炭化水素の放出を確認したが、共堆積層は除去できなかった。一方、紫外線を照射することによって、1分以内にほとんどすべての共堆積層が除去された。これらより紫外線ランプでは一光子吸収によりC-H結合だけが切断されるが、紫外線レーザーでは多光子吸収によりC-H結合、C-C結合などすべてが切断され、除去されると考えられる。

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パーセンタイル:45.58

分野:Nuclear Science & Technology

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