Total-electron-yield X-ray standing-wave measurements of multilayer X-ray mirrors for interface structure evaluation

多層膜X線ミラーの界面構造評価のための全電子収量X線定在波測定

村松 康司; 竹中 久貴*; Gullikson, E. M.*; Perera, R. C. C.*

Muramatsu, Yasuji; Takenaka, Hisataka*; Gullikson, E. M.*; Perera, R. C. C.*

X線多層膜ミラーの層構造及び界面粗さの情報を得ることを目的として、全電子収量法を用いたX線定在波スペクトルを測定した。Mo/SiC/Si多層膜ではブラッグ反射に対応した定在波ピークが観測され、アニールによる層構造の乱れが示唆された。また、本法はその簡便な測定原理のため、反射率との同時測定が可能であり、かつ二次元マッピングによる層構造の均一性について可視化できることを示した。以上から、X線多層膜ミラーの評価手法として本法が有効であることを明らかにした。

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