西川 宏之*; 惣野 崇*; 服部 雅晴*; 大木 義路*; 渡辺 英紀*; 及川 将一*; 荒川 和夫; 神谷 富裕
Nishikawa, Hiroyuki*; Souno, T.*; Hattori, M.*; Oki, Y.*; Watanabe, E.*; Oikawa, Masakazu*; Arakawa, Kazuo; Kamiya, Tomihiro
原研TIARAの軽イオン及び重イオンマイクロビーム装置を用い、マイクロビーム二次元走査によりフォトにクス基盤材料であるシリカガラスに導波、発光、調光機能を持つ微細な三次元構造を形成するための基礎研究を行った。細い短冊状にマイクロビーム照射した試料について顕微PL-ラマン分光及びAFMによるマッピングを行い、誘起される種々の構造変化を調べ、NBOHCによる650nmのPL帯の強度の分布、及び飛程近傍での高密度化による表面での凹部の生成が観測された。高品質なフォルター素子の作成を目指した光ファイバへのH
マイクロビーム照射実験では、コア部の局所領域に屈折率変化を誘起することができた。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
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号 |
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ページ数 |
: | p.254 - 256 |
発行年月 |
: | 2003/11 |
キーワード |
: | マイクロビーム; シリカガラス; 三次元微細構造; 顕微PLラマン; AFM; 高密度化; NBOHC; 光ファイバ; 屈折率変化; フィルター素子 |
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使用施設 |
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論文解説記事 |
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