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Investigation on the $$beta$$-FeSi$$_{2}$$ formation mechanisms on Si(111) substrate by means of SR-XPS

SR-XRSによるSi(111)上の$$beta$$-FeSi$$_{2}$$生成過程に関する検討

斉藤 健; 山本 博之; 北條 喜一; 松林 信行*; 今村 元泰*; 島田 広道*

Saito, Takeru; Yamamoto, Hiroyuki; Hojo, Kiichi; Matsubayashi, Nobuyuki*; Imamura, Motoyasu*; Shimada, Hiromichi*

放射光を用いたX線光電子分光法(SR-XPS)により$$beta$$-FeSi$$_{2}$$生成条件の最適化を行うことを目的としてその生成過程について検討した。実験は高エネルギー加速器研究機構,放射光研究施設,BL-13Cにて行った。Si(111)基板表面に超高真空中でFeを2nm蒸着した後、473$$sim$$973Kの範囲でそれぞれ15分加熱した。各試料について、内殻軌道のスペクトルからFe/Si組成比の深さ方向分布を、価電子スペクトルから物性評価を行った。内殻軌道の強度比を評価することによりFe-Si相互拡散過程の定量的な解析を可能とした。さらに価電子スペクトルからの673K以上で$$beta$$-FeSi$$_{2}$$の生成が始まることを明らかにした。

no abstracts in English

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