thin films prepared in different ambients by laser ablation薄膜の構造状態解析Dai, Z.*; 楢本 洋; 山本 春也; 鳴海 一雅; 宮下 敦巳
Dai, Z.*; Naramoto, Hiroshi; Yamamoto, Shunya; Narumi, Kazumasa; Miyashita, Atsumi
種々のガスふん囲気(真空,Ar,O
,Ar+O)下で、レーザー蒸着法によって作製させるFeTiO薄膜の化学量論比、結晶性、結晶方位整合性を、X線回折法、イオンビーム解析法及びオージェ電子分光法で系統的に調べた結果を報告する。結論としては、Ar+5%Oガスふん囲気下でレーザー蒸着を行うことにより、炭素不純物の取り込みもなく、化学量論比の優れた単結晶膜を合成することに成功した。エピタクシーの関係は、FeTiO(0006)/AlO(0006)となっている。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 11 |
号 |
: | 3 |
ページ数 |
: | p.913 - 925 |
発行年月 |
: | 1999/00 |
キーワード |
: | FeTiO |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：28.67 分野：Physics, Condensed Matter |
Altmetrics |
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