検索対象:     
報告書番号:
※ 半角英数字
 年 ~ 
 年

Control of film orientation; A Parametric study of laser ablated FTO films on a-, c- and r-cut sapphire substrates by X-ray diffraction

薄膜の結晶方位制御; サファイアのa,c,r面にレーザー蒸着したFTO薄膜のX線回折法によるパラメトリックな研究

Dai, Z.*; 宮下 敦巳; 山本 春也; 鳴海 一雅; 楢本 洋

Dai, Z.*; Miyashita, Atsumi; Yamamoto, Shunya; Narumi, Kazumasa; Naramoto, Hiroshi

サファイアのa,c及びr面を基板に用いて、レーザーアブレーション法により蒸着した薄膜の方位と基板方位との関係を、基板方位、温度、レーザーパワーとに着目して系統的に調べた。その中でも特徴的なのは、方位のちがう基板でも、レーザーパワーを増すことにより、FTO(FeTiO$$_{3}$$)のC面を成長させることができた点である。

no abstracts in English

Access

:

- Accesses

InCites™

:

パーセンタイル:23.36

分野:Materials Science, Multidisciplinary

Altmetrics

:

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.