Beam profile controller in a neutral beam system

中性粒子入射装置用ビーム分布制御装置

Tanaka, Shigeru; Ohara, Yoshihiro; Yamamoto, Shin

中性粒子入射装置を用いてトカマクのプラズマ電流分布制御を実現するために、ビーム分布制御装置を提案し、その概念と技術的根拠を示した。イオン源より引き出されたイオンビームを、中性化セルに入射する前に、ビーム分布制御装置を用いて磁気的に偏向することで、その軌道を制御する。本ビーム分布制御システムを用いれば、ビーム入射中に中性粒子入射電力を変えることなく、トーラスプラズマの位置で、中空分布から中心集中分布まで、各種のビーム強度分布を得ることができる。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Fusion Technology
巻	:	91
号	:	3
ページ数	:	p.531 - 539
発行年月	:	1991/05
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キーワード	:	Beam Profile Control; Neutral Beam; Current Profile Control; Current Drive

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登録番号 : A19900065
抄録集掲載番号 : 190500
論文投稿番号 : 10395

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