Tamada, Masao; not registered; Omichi, Hideki
励起源として蒸着チャンバー内に配置した低圧水銀ランプを用いて、N-ビニルカルバゾール(NVC
)の蒸着重合を行い、基板上での薄膜作製とアニール過程をフーリエ変換赤外反射吸収法により、リアルタイムにその場観察した。その結果、得られた高分子薄膜はアモルファス構造とカルバゾール基面と基板表面との角度が59度で配向した構造の2つの構造から構成され、それぞれ65%、35%であると推定された。種々の基板温度で蒸着重合した場合、基板温度が高くなるにつれて重合収率は上昇し、275Kの時95%に達した。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
: | 292 |
号 |
: | 1-2 |
ページ数 |
: | p.164 - 168 |
発行年月 |
: | 1997/00 |
キーワード |
: | N-ビニルカルバゾール; 赤外反射吸収法; リアルタイムその場観察; 配向; 蒸着重合; 重合収率; 薄膜; 低圧水銀ランプ; 基板温度; 励起源 |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：46.46 分野：Materials Science, Multidisciplinary |
Altmetrics |
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