神垣 信生*; 古野 茂実; 北條 喜一; 小野 興太郎*; 橋本 英二*; 出井 数彦*; 紀 隆雄*
not registered; Furuno, Shigemi; Hojo, Kiichi; Ono, K.*; not registered; not registered; Kino, Takao*
AlおよびAl合金に10keVのHe
イオンを種々の温度で照射し、またその後の焼鈍中の転移ループの挙動を調べ、次の結果を得た。17Kで転位ループが形成されること、純Alにおいて、焼鈍中の転位ループの挙動は照射中のイオン強度に依存すること、および添加元素の濃度が大であると、473Kにおいても、転位ループが形成されることを明らかにした。これらの結果について、照射温度と強度および添加元素の種類と濃度を考慮して、転位ループの形成、成長、消滅過程を検討した結果を報告する。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 191-194 |
号 |
: | |
ページ数 |
: | p.1214 - 1218 |
発行年月 |
: | 1992/00 |
発表会議名 |
: | |
開催年月 |
: | 1991/11 |
開催都市 |
: | America |
開催国 |
: | |
キーワード |
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論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：41.92 分野：Materials Science, Multidisciplinary |
Altmetrics |
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