Effect of concurrent irradiation with electrons on ion-induced amorphization in silicon

シリコンのイオン照射誘起非晶質化に及ぼす同時電子照射効果

阿部 弘亨; 木下 智見*; P.R.Okamoto*; L.E.Rehn*

Abe, Hiroaki; Kinoshita, Chiken*; P.R.Okamoto*; L.E.Rehn*

Siのイオン照射誘起非晶質化に及ぼす同時電子照射効果について明らかにした。イオン・電子同時照射により、非晶質化は抑制され、抑制のために必要な臨界電子線束密度が求められた。それはイオン照射によるエネルギー付与密度、イオン線束密度、電子エネルギーに依存する。これより、イオン照射誘起非晶質化は、本質的に、イオン照射により生じるカスケードのオーバーラップによって生じることが判明した。さらに、同時電子照射による非晶質化の抑制効果は、カスケードが点欠陥の照射誘起拡散や電子励起によって不安定化することに起因することが明らかになった。

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