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Properties of thin boron coatings formed during deuterated-boronization in JT-60

JT-60における重水素化ボロナイゼーションで作製したボロン膜の特性

柳生 純一; 荻原 徳男; 西堂 雅博; 岡部 友和; 平塚 一; 三代 康彦; 楢本 洋; 山本 春也; 竹下 英文; 青木 康; Goppelt-Langer, P.*; J.von-Seggern*

Yagyu, Junichi; Ogiwara, Norio; Saido, Masahiro; Okabe, Tomokazu; Hiratsuka, Hajime; Miyo, Yasuhiko; Naramoto, Hiroshi; Yamamoto, Shunya; Takeshita, Hidefumi; Aoki, Yasushi; Goppelt-Langer, P.*; J.von-Seggern*

デカボランを用いたボロナイゼーションでは、第一壁上に作製されたボロン膜中に10-12%の軽水素が含まれる。重水素放電を実施した際、この軽水素がプラズマ燃料を希釈してしまうため、ボロナイゼーション後に約100ショットの調整放電が必要であった。軽水素濃度を減らす目的で、重水素化ボロナイゼーションを実施した。作製したボロン膜を分析したところ、ボロン膜中に軽水素は、2-4%に減少していることが判った。重水素放電においても、ボロナイゼーション直後からプラズマ中の軽水素濃度は少なく、調整放電も不要であった。更に、ボロン膜を内壁全面に渡って均一に作製するために、真空容器内にデカボランガス供給口を12箇所設けた。その結果、トロイダル方向に105nm-255nm厚さのボロン膜が作製された。

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