Ion desorption from DNA components irradiated with 0.5 keV ultrasoft X-ray photons

0.5keV軟X線照射によるDNA構成分子からのイオン脱離

藤井 健太郎; 赤松 憲; 横谷 明徳

Fujii, Kentaro; Akamatsu, Ken; Yokoya, Akinari

DNAの放射線損傷のメカニズムを解明するため、直接イオン化や放射線トラックに生じた二次電子によって受ける損傷を調べることは、重要な課題である。本研究では軟X線照射によって引き起こされるDNA中の特定サイトで起こる分子フラグメントを観測することを試みた。実験はSPring-8原研専用ビームラインBL23SUにおいて行い、軟X線照射によって得られる、表面脱離イオンを四重極質量分析器によって観測した。試料としてDNA構成分子である、デオキシリボース,チミン,チミジンTMPを用い、得られたフラグメントのパターンから、DNA分子中では糖のサイトが脆弱部位であることが明らかになった。

Positive ion desorption from thin films of DNA components, 2-deoxy-D-ribose, thymine, thymidine (dThd), and thymidine 5' -monophosphate (dTMP) has been investigated in the oxygen K-edge excitation region using synchrotron ultrasoft X-rays (538 eV). The mass patterns of dThd and dTMP, especially that of dTMP, were similar to that of 2-deoxy-D-ribose, indicating that a number of ions were generated at the sugar site, even in the nucleotide molecule. It is therefore it is predicted that the sugar is a more fragile site than the thymine base.