Diagnostics of pulsed plasma in laser ablation of boron compounds

ホウ素化合物のレーザーアブレーションにおけるパルスプラズマの診断

大場 弘則  ; 佐伯 盛久; 横山 淳

Oba, Hironori; Saeki, Morihisa; Yokoyama, Atsushi

XeClエキシマレーザーを用いてホウ素化合物である、BCあるいはBNからのアブレーションを行った。生成したプルームプラズマ中の粒子フラックスをイオンプローブ及び四重極型質量分析計を用いて測定した。プルーム中のイオンの割合は、レーザー強度の増加に応じておおよそ20%程度までになることがわかった。また、中心軸に沿ったプルームプラズマ中の中性のホウ素原子は天然存在比であったのに対して、イオンではBの濃縮が観測された。

A plasma produced by a XeCl laser ablation of boron compound was investigated using ion probes and a quadrupole mass spectrometer. Although the ablated neutral boron atoms had a natural abundance ratio, the isotope ratio of singly ionized boron atoms having a greatly different from the natural abundance ratio was observed. The observed isotope ratio of boron ions was different from the natural abundance.