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Radiation synthesis of hydrogen cyanide from nitrogen-ethylene system; Effect of temperature, gas density, and reactor wall

窒素-エチレン系からの放射線によるシアン化水素の合成、温度、ガス密度および反応容器の影響

池添 康正; 佐藤 章一; 団野 晧文

Ikezoe, Yasumasa; not registered; not registered

窒素-エチレン系からの放射線によるシアン化水素生成が、吸収線量、照射温度、ガス密度、ガス組成、反応容器の壁面等に依存することを見出した。高温においては、G(HCN)値は全ガス密度が小さいと大きくなる。室温においては、エチレン分圧が高いとG(HCN)値は大きくなる。反応容器の壁面はG(HCN)に大きな影響を及ぼす。最も大きいG(HCN)として4.2という値が得られた。シアン化水素生成のメカニズムとして次の2つの反応が提供された。N(or N$$^{+}$$)+c$$_{2}$$h$$_{4}$$$$rightarrow$$HCN+CH$$_{3}$$(or CH$$_{3}$$$$^{+}$$(2)N$$_{2}$$$$^{ast}$$(orN$$_{2}$$$$^{ast}$$$$^{ast}$$)+C$$_{2}$$H$$_{4}$$$$rightarrow$$HCN+oHlersz(3)反応(3)は高温および高エチレン分圧下において加速される反応である。室温においてもエチレン分圧の高いところでは反応(3)は反応(2)に優越している。

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