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Observation of blistering and amorphization on germanium surface after 450KeV Ar$$^{+}$$ ion bombardment

450KeV Ar$$^{+}$$イオンで照射したGe表面でのブリスタリングと非晶質化の観察

鎌田 耕治; 数又 幸生; 久保 和子

not registered; Kazumata, Y.; not registered

重イオン照射(450KeV Ar$$^{+}$$)により、初めてGe表面にブリスタリングを作り、走査型電子顕微鏡により観察した。金属表面のブリスタリングと異なり、照射量を増加させてもブリスターの密度は5$$times$$10$$^{5}$$/cm$$^{2}$$以上にはならない。さらに照射することにより、注入されたイオンガスの噴出によると思われる多数の孔が発生する。これらの孔が既に形成されているブリスターを侵食して、ブリスターは観察されなくなる。これらの観察結果は、Ge表面での非晶質化によって、イオンのレインゲが減少し、同時に固体の膨張によって注入されたイオンが動き易くなることを考慮して説明された。非晶質化と同時に、再結晶化も観察された。

no abstracts in English

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