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Room temperature aging effects of blistering and surface roughening after Ar$$^{+}$$ ion bombardment on Mo single crystals

Ar$$^{+}$$イオンによるMo単結晶表面上の「ブリスタリング」および「表面粗化」の室温焼鈍効果

鎌田 耕治; 楢本 洋; 数又 幸生

not registered; not registered; Kazumata, Y.

300keVAr$$^{+}$$イオンをMo単結晶表面に照射すると、100日程度の室温焼鈍により始めてblisterが現われる事を見出した。この事はblisterの形成に打ち込みイオンの集合が不可欠なことを示している。Ar$$^{+}$$イオンはHe$$^{+}$$イオン等に比べるとsputtering yieldが100倍以上に大きい。この事を考慮して結晶中での打ち込みイオンの分布を計算し、blisteringのcritical dose(3.4$$times$$10$$^{1}$$$$^{7}$$ions/cm$$^{2}$$)およびcritical concentration(0.33)を得た。これらの値はHe$$^{+}$$等軽イオン照射の結果と著しく異なり、重イオン照射損傷の特色を示している。結晶表面の粗化(roughening)も著しい焼鈍効果を持ち、イオン打ち込みによる結晶表面でのsputtering yieldの変化を暗示している。

no abstracts in English

使用言語

 :

English

掲載資料名

 :

Journal of Nuclear Materials

巻

 :

71

号

 :

2

ページ数

 :

p.249 - 255

発行年月

 :

1978/02

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

Blistering; Surface Roughening; Ar Ion; Mo Single Crystal

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

https://doi.org/10.1016/0022-3115(78)90422-1

研究データの公開先DOI

 :

使用施設

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広報プレスリリース

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