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Radiation treatment of exhaust gases, 5; Effect of NH$$_{3}$$ on the removal of NO in the moist mixture of O$$_{2}$$ and N$$_{2}$$

排ガスの放射線処理に関する研究,5; 水分を含むO$$_{2}$$とN$$_{2}$$混合ガス中におけるNOの減少に対するNH$$_{3}$$の効果

徳永 興公; 西村 浩一; 鈴木 伸武; 町 末男; 鷲野 正光

not registered; not registered; not registered; Machi, Sueo; not registered

NOをNH$$_{3}$$,H$$_{2}$$O,O$$_{2}$$、N$$_{2}$$の混合ガス中において、1.5MeVの電子線で照射した。NH$$_{3}$$を含む混合ガス中におけるNOの除去速度は、NH$$_{3}$$を含まない場合のそれに比べて、大きい。この除去速度は、NH$$_{3}$$の場合400ppmまで、水分の場合4.4%まで、O$$_{2}$$の場合3%まで、それぞれの濃度の増大とともに大きくなり、それ以上においては、一定値を示した。また、この除去速度は、照射温度が高くなるにつれて、小さくなった。NH$$_{3}$$を含む場合の生成物として、NO$$_{2}$$,HNO$$_{3}$$,N$$_{2}$$Oおよび、少量のNH$$_{4}$$NO$$_{3}$$を検出した。NO$$_{2}$$とHNO$$_{3}$$の生成は、NH$$_{3}$$によって、いちぢるしく抑制され、N$$_{2}$$Oの生成は、逆に増進された。固体のNH$$_{4}$$NO$$_{3}$$は、ガスの温度が約70$$^{circ}$$C以下で生成する。NH$$_{3}$$を含む混合ガス中でのNOの除去は、O原子、OH,HO$$_{2}$$ラジカルによるNOの酸化反応によってのみでなく、NH$$_{2}$$ラジカルによるNOの還元反応によっても起こっていると考えられる。

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