The Very-small angle neutron scattering from neutron-irradiated amorphous silica

中性子照射した石英ガラスの中性子極角散乱

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原研JRR-2よりの熱中性子線により、48°2 $^{circ}$ C、310 $^{1}$ $^{9}$ /cm $^{2}$ の照射を行なった石栄ガラスについて中性子極小角散乱を測定した。2枚の完全性の高いSi結晶板を平行におき1.9の熱中性子線の111と1 $^{-}$ 1 $^{-}$ 1 $^{-}$ のBragg反射が2枚の結晶板で同時におこるようにする。2回のBragg反射の後の中性子線束の角度巾は1.41秒であった。照射した石英ガラス板を2枚のSi結晶板の間に挿入すると角席巾は1.79秒にひろがった。これは照射によって石英ガラス内に回転半径が310 $^{5}$ 程度の構造不均一性が生じたことを示す。未照射の石英ガラス板の挿入によっては中性子線束の角席巾の殆んど変わらない、照射によって作られる構造不均一性は光学顕微鏡によっても観察された。中性子線束のこのような微小な角席巾のひろがりは、極端に小さい角席領域における散乱であり、屈折によるものではないことが論証された。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Japanese Journal of Applied Physics
巻	:	20
号	:	11
ページ数	:	p.L837 - L839
発行年月	:	1981/00
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	石英ガラス; 照射効果; 中性子線; 極小角散乱

特許データ	:
PDF	:

論文URL	:	https://doi.org/10.1143/JJAP.20.L837
研究データの公開先DOI	:
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：44.1 分野：Physics, Applied
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登録番号 : A19811320
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 6181

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