Japanese Contributions to IAEA INTOR Workshop,PhaseIIA,Part 2 Chapter V:Transient Electromagnetics

IAEA INTOR Workshop,Phase Two A,Part2における日本のナショナルレポート第V章: Transient Electromagnetics

笠井 雅夫*; 上田 孝寿*; 新倉 節夫*; 亀有 昭久*; 木村 豊秋; 近藤 育朗; 松崎 誼; 森 雅博; 辻村 誠一*; 常松 俊秀; 山田 政男*; 横溝 英明; 藤沢 登; 飯田 浩正; 今村 豊*; 西川 正名*; 斉藤 龍太*; 東稔 達三

not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; Kondo, I.; not registered; not registered; not registered; Tsunematsu, Toshihide; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; Tone, Tatsuzo

本論文はIAEA INTOR Workshop、Phase Two A、Part2における日本のナショナルレポートの第V章Transient Electromagneticsをまとめたものである。プラズマ位置のフィードバック制御解析、ディスラプション時の電磁力、電場磁場の浸み込み、プラズマ位置制御およびディスラプション時の渦電流に関するベンチマーク解析等について述べられている。また、制御コイルの位置、シェル構造等のデザインガイドラインや、プラズマ位置形状制御の実験結果、シェル材、絶縁材の照射損傷Iこ関するデータベースについても述べられている。

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