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Production of endohedral $$^{133}$$Xe-higher fullerenes by ion implantation

イオン注入法による$$^{133}$$Xe内包フラーレンの製造

渡辺 智; 片渕 竜也*; 石岡 典子; 松橋 信平; 村松 久和*

Watanabe, Satoshi; Katabuchi, Tatsuya*; Ishioka, Noriko; Matsuhashi, Shimpei; Muramatsu, Hisakazu*

$$^{133}$$Xe内包フラーレンの空フラーレンからの単離の可能性を調べることを目的とし、$$^{133}$$Xe内包C$$_{84}$$フラーレンを生成してHPLCによる溶離挙動を調べた。蒸着法によりC$$_{84}$$フラーレンターゲットを作製し、同位体分離器を用いて$$^{133}$$Xeをイオン注入した。照射後のターゲットをo-ジクロロベンゼンに溶解してHPLC分析をした結果、$$^{133}$$XeとC$$_{84}$$とのピークの強い相関が見られたことから、$$^{133}$$Xe内包C$$_{84}$$フラーレンの生成が確認できた。また、$$^{133}$$Xe内包C$$_{84}$$フラーレンのピークと空のフラーレンのピークとに、わずかなずれが認められたことから、空のフラーレンからの$$^{133}$$Xe内包フラーレンの単離の可能性を示した。

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パーセンタイル:100

分野:Chemistry, Analytical

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