Comparison of electron internal transport barriers in the large helical device and JT-60U plasmas

LHDとJT-60Uプラズマの電子系内部輸送障壁の比較

居田 克巳*; 藤田 隆明; 福田 武司*; 坂本 宜照; 井手 俊介; 東井 和夫*; 稲垣 滋*; 下妻 隆*; 久保 伸*; 出射 浩*; 藤澤 彰英*; 大舘 暁*; 吉沼 幹朗*; 舟場 久芳*; 成原 一途*; 村上 定義*; 若狹 有光*; 横山 雅之*; 竹入 康彦*; 渡邊 清政*; 田中 謙治*; Liang, Y.*; 大藪 修義*

Ida, Katsumi*; Fujita, Takaaki; Fukuda, Takeshi*; Sakamoto, Yoshiteru; Ide, Shunsuke; Toi, Kazuo*; Inagaki, Shigeru*; Shimozuma, Takashi*; Kubo, Shin*; Idei, Hiroshi*; Fujisawa, Akihide*; Odachi, Satoshi*; Yoshinuma, Mikiro*; Funaba, Hisamichi*; Narihara, Kazumichi*; Murakami, Sadayoshi*; Wakasa, Arimitsu*; Yokoyama, Masayuki*; Takeiri, Yasuhiko*; Watanabe, Kiyomasa*; Tanaka, Kenji*; Liang, Y.*; Oyabu, Nobuyoshi*

LHDプラズマとJT-60Uプラズマでは低密度プラズマにECHの追加熱を行うと、中心電子温度が上昇し電子系の内部輸送障壁が形成され、電子温度勾配が大きくなる。プラズマの主半径を温度勾配のスケール長で割った値(R/LTe)が電子温度勾配モデルから想定される一つの指標として用いられている。密度で規格化したECHのパワーによってこのR/LTeがどのように変化するかを調べた。LHDプラズマでは、あるパワーにてR/LTeが急激に増大し、内部輸送障壁形成に必要なECHパワーのしきい値の存在を示しているのに対し、JT-60Uのプラズマでははっきりしたしきい値が観測されなかった。この違いは輸送障壁形成機構の違いを示していると考えられる。一方、輸送障壁形成時の電子温度分布にも、LHDプラズマとJT-60Uプラズマで差が観測されている。JT-60Uプラズマでは輸送障壁が形成されるにつれて、プラズマの中心部の温度に平坦化が見られるが、LHDプラズマでは平坦化が観測されていない。これは回転変換分布(q分布)の違いが原因と考えられる。

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