Opacity effect on extreme ultraviolet radiation from laser-produced tin plasmas

レーザー生成スズプラズマからの極端紫外発光へのオパシティの効果

藤岡 慎介*; 西村 博明*; 西原 功修*; 佐々木 明; 砂原 淳*; 奥野 智晴*; 上田 修義*; 安藤 強史*; Tao, Y.*; 島田 義則*; 橋本 和久*; 山浦 道照*; 重森 啓介*; 中井 光男*; 長井 圭治*; 乗松 孝好*; 西川 亘*; 宮永 憲明*; 井澤 靖和*; 三間 圀興*

Fujioka, Shinsuke*; Nishimura, Hiroaki*; Nishihara, Katsunobu*; Sasaki, Akira; Sunahara, Atsushi*; Okuno, Tomoharu*; Ueda, Nobuyoshi*; Ando, Tsuyoshi*; Tao, Y.*; Shimada, Yoshinori*; Hashimoto, Kazuhisa*; Yamaura, Michiteru*; Shigemori, Keisuke*; Nakai, Mitsuo*; Nagai, Keiji*; Norimatsu, Takayoshi*; Nishikawa, Takeshi*; Miyanaga, Noriaki*; Izawa, Yasukazu*; Mima, Kunioki*

レーザー生成スズプラズマからの極端紫外(EUV)発光へのオパシティの効果を実験的に解析した。X線放射によって電子温度30-40eVの均一なスズプラズマを生成することにより、EUV波長域(10-20nm)におけるオパシティを初めて測定した。測定されたオパシティは理論計算とほぼ一致した。理論計算で求めたオパシティを用いた輻射流体シミュレーションと実験の比較の結果は、EUV光源としての効率を高めるためには、13.5nm領域でプラズマの光学的厚みが1程度以上になることが必要だが、反面オパシティが大きすぎると吸収の効果によって効率が低下することを示し、オパシティの制御が重要なことを示す。

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