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Luminescence characteristics and defect formation in silica glasses under H and He ion irradiation

水素及びヘリウム照射下におけるシリカガラスのルミネッセンス特性と欠陥形成

永田 晋二*; 山本 春也; 井上 愛知*; 土屋 文*; 藤 健太郎*; 四竃 樹男*

Nagata, Shinji*; Yamamoto, Shunya; Inoue, Aichi*; Tsuchiya, Bun*; To, Kentaro*; Shikama, Tatsuo*

シリカガラス中に含まれている水酸基がイオンビーム誘起発光に及ぼす影響と照射損傷との関連を明らかにし、発光体など機能材料への応用を探索することを目的に、イオンビーム誘起発光のその場測定を行った。実験では、水酸基の含有量が異なったシリカガラスに対して、入射エネルギー: 0.1$$sim$$2MeVのプロトン及びヘリウムを照射し、試料からの発光を測定した。その結果、発光強度のエネルギー依存性及び照射量依存性から、酸素欠損型の発光中心は、MeV領域のエネルギーを持つプロトンではおもに電子励起によって生成されていると結論され、水酸基が存在する場合には、付与エネルギーが水酸基の解離やB$$_{2alpha}$$型酸素欠損の生成に費やされると考えられた。

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分野:Materials Science, Multidisciplinary

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