中性アルゴンビーム照射によるレーザー結晶表面の形態変化

Disorder analysis of laser crystal surfaces irradiated by a neutral argon beam

Sugiyama, Akira; Yamamoto, Shunya; Takano, Katsuyoshi

耐熱性の高いレーザー光学素子や複合的な光機能を誘発できる新型レーザー素子を作製するためには、中性アルゴンビーム照射による表面活性化法を用いたレーザー結晶の接合技術が必須である。このアルゴンビームを単結晶サファイアに照射した際に結晶表面に現れる形態変化を把握するために、XPS, RBS及びAFM測定を行った。その結果、結晶表面のランダム度及び残留アルゴン量は、照射電圧及びビーム照射角度、それぞれの増加に従い、比例的に増加することがわかった。一方RBS測定からは、処理温度の増加に伴い結晶性の回復と残留アルゴン量の減少を確認した。活性化ビーム照射後の平均表面粗さ(Ra)4.27nmは、1573Kの熱処理によって0.69nmと照射前の0.43nmの状態に回復することがAFM測定において確認された。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	第1回高崎量子応用研究シンポジウム
開催年月	:	2006/06
開催都市	:	高崎
開催国	:	日本
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