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単結晶基板中にイオン注入された原子のクラスター形成過程; XPSによる深さ方向のクラスターサイズ評価, 3

Application of X-ray photoelectron spectroscopy to characterization of metallic nanoclusters formed by ion implantation, 3

高廣 克己*; 大泉 信之助*; 川面 澄*; 一色 俊之*; 西尾 弘司*; 永田 晋二*; 山本 春也; 鳴海 一雅; 楢本 洋

Takahiro, Katsumi*; Oizumi, Shinnosuke*; Kawatsura, Kiyoshi*; Isshiki, Toshiyuki*; Nishio, Koji*; Nagata, Shinji*; Yamamoto, Shunya; Narumi, Kazumasa; Naramoto, Hiroshi

単結晶サファイア($$alpha$$-Al$$_{2}$$O$$_{3}$$(0001))及び石英ガラス(SiO$$_{2}$$)に、500keVの$$^{197}$$Au$$^{+}$$イオンを4.0$$times$$10$$^{16}$$ions/cm$$^{2}$$注入し、生成されたAuナノ粒子の深さ方向のサイズ評価にX線光電子分光法(XPS)とスパッタエッチングを適用した。$$alpha$$-Al$$_{2}$$O$$_{3}$$(0001)の場合、Au濃度が高いほどAu 5d$$_{5/2}$$と5d$$_{3/2}$$価電子帯準位間の分裂幅は広くなり、5d分裂幅においてAu濃度との強い相関が見いだされた。サイズ1$$sim$$2nmのAuナノ粒子に対しては、XPSと透過型電子顕微鏡(TEM)から得られたサイズ分布の結果はよく一致した。一方、深さ60$$sim$$70nm及び130$$sim$$150nmにおいては、TEMではAuナノ粒子は観察されなかったが、価電子帯スペクトルでは、そのサイズを0.8$$pm$$0.1nmと評価することができた。Auイオン注入SiO$$_{2}$$では、サイズ1.5$$sim$$5nmのAuナノ粒子が観察された。サイズ2nm以下については、XPSとTEMの結果は誤差の範囲内で良い一致を示した。一方、サイズ2$$sim$$5nmについては、サイズ評価の精度が低くなった

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

巻

 :

号

 :

ページ数

 :

発行年月

 :

発表会議名

 :

第1回高崎量子応用研究シンポジウム

開催年月

 :

2006/06

開催都市

 :

高崎

開催国

 :

日本

キーワード

 :

no keyword

特許データ

 :

PDF

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論文URL

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研究データの公開先DOI

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使用施設

 :

TIARA(イオン照射研究施設)

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

 :

受委託・共同研究相手機関

 :

京都工芸繊維大学

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