を用いた放射光高速エッチングビームラインの設計と製作中井 直史*; Chiang, T.-Y.*; 宇野 秀隆*; 手老 龍吾*; 鈴井 光一*; 寺岡 有殿; 吉越 章隆 
; 牧村 哲也*; 村上 浩一*; 宇理須 恒雄*
Nakai, Naofumi*; Chiang, T.-Y.*; Uno, Hidetaka*; Tero, Ryogo*; Suzui, Koichi*; Teraoka, Yuden; Yoshigoe, Akitaka; Makinura, Tetsuya*; Murakami, Koichi*; Urisu, Tsuneo*
SF
を反応ガスとして用いたSiOのエッチングをMEMSなどに応用する場合にはミクロンオーダー深さのエッチングを行う必要があり、従来よりもエッチレートを二桁大きくする必要がある。XeFを用いたドライエッチングはSiに対するエッチレートが600nm/minと大きく、MEMS等でしばしば用いられているが、等方性エッチングとなり、SiOがエッチングできないなど材料選択上の制約も多い。そこで、XeFと放射光を併用した光励起エッチングを行うことにより、SiOの異方性エッチングを可能とする。そのためにXeF放射光エッチング用セルを設計し、製作した。
no abstracts in English
使用言語 |
: | Japanese |
|---|---|---|
掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | |
号 |
: | |
ページ数 |
: | |
発行年月 |
: | |
発表会議名 |
: | |
開催年月 |
: | 2006/08 |
開催都市 |
: | 草津 |
開催国 |
: | 日本 |
キーワード |
: | no keyword |
論文URL |
: |
|
|---|---|---|
使用施設 |
: | |
論文解説記事 |
: | |
受委託・共同研究相手機関 |
: |
Access |
: |
- Accesses |
|---|---|---|
Altmetrics |
: |
[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.
被引用回数：