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Gas separation SiC membrane developed from precursor polymers by radiation curing

放射線架橋によるセラミック前駆体高分子からのガス分離性SiC薄膜の開発

Wach, R. A.; 杉本 雅樹; 吉川 正人

Wach, R. A.; Sugimoto, Masaki; Yoshikawa, Masahito

ケイ素高分子から合成されるSiC薄膜は、高温で使用可能な水素分離フィルター等への応用が期待されている。ケイ素高分子を多孔質アルミナ基板上に塗膜し、電子線で不融化後に不活性ガス中で焼成してセラミックに転換するSiC薄膜製造法の開発を進めている。本講演では、ポリカルボシラン(PCS)及びポリビニルシラン(PVS)の2種類のケイ素高分子材料及びそれらの混合高分子材料の焼成転換後のセラミック収率や表面形態への影響等の結果を述べるとともに、水素及び窒素の透過性を調べ、そのガス分離能について報告する。

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