Metal-molecular interface of sulfur-containing amino acid and thiophene on gold surface

金表面上におけるSを含むアミノ酸及びS化合物の金属-分子界面結合状態

本田 充紀   ; 馬場 祐治  ; 平尾 法恵*; 関口 哲弘  

Honda, Mitsunori; Baba, Yuji; Hirao, Norie*; Sekiguchi, Tetsuhiro

新たな機能性薄膜を構築するための有機分子を用いた生体分子薄膜は、表面に分子が吸着した場合の基礎的物性が、界面の結合状態に非常に大きく左右される。そのため、界面の情報を知ることは必要不可欠である。今回、金とイオウ界面に注目し、SHとS化合物の金表面上での界面状態の違いを詳しく検討するために、金表面上にL-システイン多分子・単分子及びチオフェン単分子層の異なる3種類の界面状態を作成して軟X線吸収分光法(NEXAFS)及びX線光電子分光法(XPS)による比較検討を行った。その結果、L-システインのNEXAFS結果においてS K-edgeが9eV大きくなり、またXPS測定結果ではS 1sが8eV高結合エネルギー側に化学シフトした位置に現れる、特異な界面の結合状態を確認した。一方、チオフェンでは同様の現象は起こらなかった。この特異なS-Au界面では、一般的なSulfideとは異なり、S[+] Au[-]に電子供与が行われることを明らかにした。これはSH基のみにおこる現象であり、S-Auの特徴的な結合状態であることがわかった。

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