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Si(111)-7$$times$$7表面への酸素分子の室温吸着過程の放射光光電子分光によるリアルタイム観察; O1s及びSi2pの時間変化及びその相関

Real time observation of O$$_{2}$$ adsorption process on Si(111)-7$$times$$7 at 300K by using synchrotron radiation photoelectron spectroscopy; Time evolution and its correlation of O1s and Si2p

吉越 章隆 ; 寺岡 有殿

Yoshigoe, Akitaka; Teraoka, Yuden

Si(111)-7$$times$$7表面へのO$$_{2}$$の室温吸着に関して、初期吸着確率,飽和吸着量,準安定吸着酸素分子の入射運動エネルギー依存性を報告してきた。初期吸着ダイナミクスは明らかになりつつあるが、飽和吸着に至るまでの吸着状態の時間変化は不明である。ガス吸着条件(0.03eV)のO1s及びSi2pの内殻準位シフトの時間変化を調べた結果、吸着状態の時間変化に密接な相関があることを見いだしたので報告する。

We have reported the incident energy dependece of initial sticking probability, saturation coverage and metastable adsorebed oxygen molecule for O$$_{2}$$ adsorption on Si(111)-7$$times$$7 at 300K. Though the initial adsorption dynamics is emerging, the time evolution of adsorption states progressing to the saturation has not been clear yet. As a reult of measuring the time evolution of both O1s and Si2p XPS, we found the close relationships between those components.

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

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巻

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号

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ページ数

 :

発行年月

 :

発表会議名

 :

第27回表面科学講演大会

開催年月

 :

2007/11

開催都市

 :

東京

開催国

 :

日本

キーワード

 :

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特許データ

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