Development and application of positron microprobe

陽電子マイクロビームの開発と利用

前川 雅樹; 河裾 厚男; 平出 哲也  ; 三輪 幸夫

Maekawa, Masaki; Kawasuso, Atsuo; Hirade, Tetsuya; Miwa, Yukio

当グループでは、陽電子ビームマイクロビームの開発とその利用研究を行っている。陽電子マイクロビームは、新たに開発した小型陽電子線源と固体ネオン減速材により発生させた高輝度陽電子ビームを、電子レンズを用いて収束することで形成した。最小ビーム径は3.9mであることが確認された。この陽電子マイクロビームを、応力腐食割れを起こしたステンレス材上を2次元走査した。その結果、亀裂部先端において、亀裂発生に先駆けてSパラメータが上昇することが見いだされた。これは空孔型欠陥が導入されていることを示していると考えられる。

We present the development and application of a positron microprobe. Positrons from a small positron source developed by us were moderated by a solid neon moderator, and were focused onto the specimen using the optics of conventional scanning electron microscope (SEM). At present stage, the beam diameter was determined by scanning the beam across a knife-edge, and was found to be about 3.9 micrometer. Two dimensional scanning measurement of a cracked sample (stress-corrosion cracking) was performed. In the region distant from the tip of a crack, increase of S-parameter was found, which are possibly associated with the vacancy defects.